大日本印刷开发出了用于形成线纳米级别的新一代半导体电路的“光掩膜（Photomask）”。近期已开始向半导体制造设备厂商等提供样品。预计1纳米半导体将在2030年以后普及，为提升人工智能（AI）和自动驾驶的性能做出贡......

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